专利:
专利是通过法律手段保护发明创造的一种知识产权形式。申请人需向国家知识产权局提交详细技术方案，经审查通过后获得20年独占权（发明专利）。专利具有公开性，技术内容需完整披露以换取保护。

商业秘密:
商业秘密是指不为公众所知悉、具有商业价值且经权利人采取保密措施的信息（如配方、工艺）。无需注册登记，保护期限理论上无限长，但一旦公开即失去保护。法律禁止他人通过不正当手段获取、披露或使用商业秘密。