专利与商业秘密是两种不同的知识产权保护方式，主要识别点如下：

  • 专利
    • 需公开技术方案，换取法律保护
    • 保护期有限（通常20年）
    • 需向国家知识产权局申请
    • 保护范围以权利要求书为准
  • 商业秘密
    • 依靠保密措施维持保护
    • 无固定保护期限
    • 无需官方注册
    • 涵盖技术秘密和经营秘密

核心区别：专利以公开换保护，商业秘密以保密换保护。