商业秘密和专利是两种不同的知识产权保护方式，主要区别如下：

  • 保护对象不同：商业秘密保护未公开的商业信息（如配方、客户名单等），专利保护公开的技术方案或设计。
  • 保护条件不同：商业秘密要求信息具有秘密性、价值性和保密措施；专利需要具备新颖性、创造性和实用性。
  • 保护期限不同：商业秘密可无限期保护（只要保持秘密性），发明专利保护期通常为20年。
  • 公开要求不同：商业秘密必须保密，专利需要公开技术细节。
  • 权利取得方式不同：商业秘密自动产生，专利需经申请审查授权。