商业秘密和专利是两种不同的知识产权保护方式，主要区别如下：

  • 保护对象：商业秘密保护未公开的商业信息（如配方、客户名单），专利保护技术方案或产品设计
  • 保护条件：商业秘密要求信息具有秘密性、价值性和保密措施，专利需要具备新颖性、创造性和实用性
  • 保护期限：商业秘密理论上可无限期保护，专利通常有20年期限
  • 公开要求：商业秘密必须保密，专利需要公开技术细节
  • 权利取得：商业秘密自动产生，专利需经申请审批

选择依据：技术是否容易被反向工程、能否长期保密、保护成本等因素决定采用哪种方式。