专利与商业秘密是两种不同的知识产权保护方式，主要区别如下：

  • 公开性：专利需要公开技术细节以换取保护，商业秘密则依靠保密措施不公开。
  • 保护期限：专利有固定保护期（通常20年），商业秘密可无限期保护直至泄露。
  • 法律依据：专利受《专利法》保护，商业秘密适用《反不正当竞争法》。
  • 维权难度：专利侵权可直接举证，商业秘密需证明已采取合理保密措施。
  • 成本：专利申请和维护费用较高，商业秘密无官方注册成本。

企业可根据技术特性（如易反向工程程度）、市场周期等因素选择保护方式，必要时可组合使用。