商业秘密和专利的主要区别如下：

  • 保护方式不同：商业秘密通过保密措施保护，无需公开；专利需向国家申请并通过公开技术内容获得保护。
  • 保护期限不同：商业秘密可无限期保护（只要保持秘密性）；专利保护期通常为20年（发明专利）或10年（实用新型/外观设计）。
  • 法律依据不同：商业秘密受《反不正当竞争法》保护；专利受《专利法》保护。
  • 侵权认定不同：商业秘密需证明侵权方非法获取/使用；专利只需证明技术落入权利要求范围。
  • 成本差异：商业秘密维护成本低（仅保密措施）；专利需支付申请费、年费等官方费用。

核心差异总结：商业秘密侧重"保密性"，专利强调"公开换保护"。