专利与商业秘密是两种不同的知识产权保护方式，主要区别如下：

  • 公开性：专利需要公开技术细节以换取保护，商业秘密则依靠保密措施不公开
  • 保护期限：专利有固定保护期（通常20年），商业秘密可无限期保护
  • 保护条件：专利需具备新颖性、创造性，商业秘密需具有商业价值且采取保密措施
  • 维权方式：专利侵权可直接起诉，商业秘密需先证明信息保密性及对方不当获取
  • 成本：专利申请和维护成本较高，商业秘密主要依赖保密成本

选择依据：技术是否容易被反向工程、保护期限需求、是否愿意公开技术等。