专利异议和商业秘密的主要区别如下：

  • 保护对象不同：专利保护的是公开的发明创造，商业秘密保护的是未公开的商业信息
  • 保护期限不同：专利有固定保护期（通常20年），商业秘密可无限期保护
  • 公开要求不同：专利需要公开技术方案，商业秘密要求信息处于保密状态
  • 权利取得方式不同：专利需经申请审批，商业秘密自动产生无需登记
  • 维权依据不同：专利依据《专利法》，商业秘密依据《反不正当竞争法》
  • 保护成本不同：专利需缴纳年费，商业秘密需持续投入保密措施

当技术容易被反向工程时，专利保护更合适；当技术难以被破解时，商业秘密保护可能更有优势。